如今 我們應用廣泛的二手ICP-MS，涉及到很多半導體制成過程需要痕量雜質分析需求，如何調諧和優(yōu)化 二手ICP-MS 儀器的狀態(tài)呢？

首先了解二手ICP-MS的工作原理，調諧的最終目的是：
1、獲得最好的靈敏度---信噪比來體現；
2、最大的消干擾---以質荷比來體現。

（1）采樣深度

調這個參數分兩種情況：
1、難電離元素應當適當增大采樣深度，即增加了難電離元素在等離子體中的路程，進而延遲了難電離元素在ICP中電離的時間，使難電離元素得到充分電離，但是過度的延長會增加二次電離的幾率，從而會形成雙電荷離子，因此單一看此參數的效果就和開口向的拋物線是一樣的，需要我們找到一個最佳點；
2、易電離元素與之相反，應當適當縮短采樣深度，但是同樣的如果過度縮短采樣深度會使該電離的元素未充分電離。

綜上既要得到最佳的目標值，又要降低干擾，需要有一個指標來確認，這就是我們?yōu)槭裁匆凑{諧液各參數的信號值的原因。

（2）霧化氣

增大會增加進樣量，元素的電離量也會增大，但同時干擾的離子也會增加；而且過大的流量會使等離子體溫度降低，進而影響元素的電離率。所以需要尋找一個最佳點，因為此參數對信號值的影響非常明顯，也是常調節(jié)的參數。

（3）霧化室溫度

來保證樣品在霧室內形成很好的霧狀樣品，一般設置為2℃。

（4）透鏡

通過改變電壓，定向選擇目標離子通過，進入下一級系統(tǒng)?？梢愿鶕諭CP-MS儀器實際的信號值做出相應調整。

（5）碰撞池

二手ICP-MS儀器 使用的氣體一般是氦氣，因為氦氣的第一電離能比氬氣還大，更加穩(wěn)定，更不易電離，進不用擔心再額外產生干擾離子。用氦氣去碰撞在前期等離子體中形成的多原子干擾離子，比如ArO+，將這種對Fe+產生干擾的且相對不穩(wěn)定的多原子離子撞開，來消除干擾。但是必須要調節(jié)好流量，過高的流量也會將目標離子撞飛，使大量目標離子無法進檢測器，從而會使信號值降到很低。